近日，“拓諾稀科技”完成天使輪融資。本輪融資數百萬元人民幣，由力合科創領投。此次融資將用于引進先進設備，提升MOCVD和mist-CVD技術路線的產能，以滿足快速增長的市場需求。

拓諾稀科技是一家氧化鎵外延薄膜制備及高性能半導體器件研發商，聚焦于氧化鎵外延薄膜的制備及高性能半導體器件的開發，并在非晶氧化鎵薄膜技術及離子注入裝置領域擁有核心專利。

隨著全球電子信息產業的高速發展，第三代、第四代半導體材料的創新已成為各國競相追逐的焦點。其中，氧化鎵（Ga?O?）作為一種具有超寬禁帶的半導體材料，在高壓功率電子、射頻通訊、光電探測等領域展現出巨大的應用潛力。氧化鎵憑借其高擊穿電場強度和高熱導率，為高功率和高頻應用帶來了顯著的優勢，成為新一代半導體材料中的熱門研究方向。

深圳市力合科創股份有限公司創新部成果轉化項目經理張恒嘉表示：拓諾稀科技專注的第四代半導體氧化鎵外延生長，屬于材料底層創新。在全球半導體技術升級和國產替代需求日益迫切的背景下，其研發方向具有深遠的戰略意義。其P型摻雜技術更是創新性突破國際難題，在高性能半導體器件的開發方面具有很好的想象力。我們很高興能參與拓諾稀科技的成長之路。未來，力合科創將積極踐行“讓科技創新種子長成參天產業大樹”的使命，為初創科技企業高質量發展提供全要素、全鏈條投資孵化服務。